平行曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术，在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机，是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。

平行曝光机基本工作原理：

在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。根据电路板的线路的粗细来决定上下光源的曝光能量，能量不足电路板无法曝光，要是能量过高电路板就会过曝，所以在曝光电路板时，必须先测试电路板所需的能量，从而进行电路板的曝光生产。

LED平行曝光机的优点：

1、均匀度90%以上。

2、线路板解析度可达到50μm。

3、节能80％，四年内无需更换灯管，无冷却水消耗。

4、紧密的光学组合，使光源投射的平行半角小于2°。

5、曝光面积为：1000mm×750mm/1300mm×750mm/1500mm×750mm。

6、真空盖板自动升起，避免员工繁重的体力劳动。

7、LED逐点校正系统实时，实时监控每个发光单元的强度状态。

8、超高能量，能有效取代8KW/10KW12KW传统汞灯阻焊曝光机，曝光时间为20秒。